粉碎粒度范圍D50:1.5-45微米，粒形好，粒度分布窄;粉碎過程依靠物料自身的碰撞來完成，完全自磨，因此設(shè)備耐磨損，產(chǎn)品純度高;轉(zhuǎn)子速度可以變頻調(diào)速，靈活調(diào)整粒度分布;適用于莫式硬度9以下的各類物料的干法粉碎，尤其適合高硬度、高純度、高附加值物料的粉碎;恒溫或低溫?zé)o介質(zhì)粉碎，尤其適合于熱敏性、低熔點(diǎn)、含糖分、揮發(fā)性物料的粉碎;整套系統(tǒng)密閉粉碎，粉塵少，噪音低，生產(chǎn)過程清潔環(huán)保;控制系統(tǒng)采用程序控制，操作簡(jiǎn)便;可選用防爆設(shè)計(jì)，也可升級(jí)為氮?dú)庋h(huán)系統(tǒng)，滿足易燃易爆易氧化物料的超細(xì)粉碎加工需求;

　　可用于陶瓷涂層的主要有：氧化物、碳化物、氮化物、硼化物陶瓷等。氧化物陶瓷常用的涂層材料有Al2O3，TiO2，ZrO2，Cr2O3，SiO2，MgO，BeO，Y2O3等;碳化物陶瓷主要有SiC，WC，BC，TiC等;氮化物陶瓷主要有Si3N4，TiN，BN，AlN等;硼化物陶瓷，常用的有TiB，ZrB2等。

　　粉碎粒度范圍D50：1-45微米，粒形好，粒度分布窄;

　　粉碎過程依靠物料自身的碰撞來完成，完全自磨，因此設(shè)備耐磨損，產(chǎn)品純度高;

　　轉(zhuǎn)子速度可以變頻調(diào)速，靈活調(diào)整粒度分布;

　　適用于莫氏硬度9以下的各類物料的干法粉碎，尤其適合高硬度、高純度、高附加值物料的粉碎;

　　恒溫或低溫?zé)o介質(zhì)粉碎，尤其適合于熱敏性、低熔點(diǎn)、含糖份、揮發(fā)性物料的粉碎;

　　整套系統(tǒng)密閉粉碎，粉塵少，噪音低，生產(chǎn)過程清潔環(huán)保;

　　控制系統(tǒng)采用程序控制，操作簡(jiǎn)便;

　　可選用防爆設(shè)計(jì)，也可升級(jí)為氮?dú)庋h(huán)系統(tǒng)，滿足易燃易爆易氧化物料的超細(xì)粉碎加工需求。

　　壓縮空氣經(jīng)過濾干燥后，通過拉瓦爾噴嘴高速噴射入粉碎腔，在多股高壓氣流的交匯點(diǎn)處物料被反復(fù)碰撞、磨擦、剪切而粉碎，粉碎后的物料在風(fēng)機(jī)抽力作用下隨上升氣流運(yùn)動(dòng)至分級(jí)區(qū)，在高速旋轉(zhuǎn)的分級(jí)渦輪產(chǎn)生的強(qiáng)大離心力作用下，粗細(xì)物料分離，符合粒度要求的細(xì)顆粒通過分級(jí)輪進(jìn)入旋風(fēng)分離器和除塵器收集，粗顆粒下降至粉碎區(qū)繼續(xù)粉碎。